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특허청 기술 경찰 반도체 국가 핵심기술 중국 유출조직 일망타진
  • 기사등록 2023-01-26 12:59:03
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[대전인터넷신문=세종/최대열기자] 26일 특허청 기술 디자인 특별사법경찰(이하 기술경찰)과 대전지방검찰청(검사장 이진동)이 반도체 웨이퍼 연마(CMP) 관련 기술을 중국 유출을 시도하던 국내 대기업·중견기업의 前직원 3명을 구속하는 등 6명을 최종 기소했다고 밝혔다.



A社 前 직원이던 주범 ㄱ씨(55세, 구속)는, 임원 승진에 탈락하자 2019년 6월 중국업체와 반도체 웨이퍼 연마제(CMP 슬러리) 제조사업 동업을 약정하고, A社에 계속 근무하면서도 메신저 등으로 중국 내 연마제 생산설비 구축 및 사업을 관리하기 시작하면서 B·C社 연구원인 ㄴ씨(52세, 구속), ㄷ씨(42세, 구속), ㄹ씨(35세, 불구속)를 스카우트해 중국으로 이직시켰으며, 2020년 5월부터 ㄱ씨 자신도 중국 업체의 사장급으로 이직해 근무했다. A·B·C社는 모두 코스피 또는 코스닥시장 상장사들로서, 시가총액 합계 66조원 상당인 이 분야 독보적인 기업들이다.


이들은 컴퓨터 또는 업무용 휴대전화로 회사 내부망에 접속해 반도체 웨이퍼 연마 공정도 등 회사의 기밀자료를 열람하면서 개인 휴대전화로 사진촬영하는 수법 등으로 유출한 혐의를 받고 있다. 위 자료에는 A·B社의 반도체 웨이퍼 연마제 및 연마패드 관련 첨단기술이자 영업비밀은 물론, C社의 반도체 웨이퍼 연마공정 관련 국가핵심기술이자 영업비밀까지 포함되어 있다.


기술경찰은 2022년 3월 국정원 산업기밀보호센터로부터 중국업체로 이직한 B社의 연구원 2명(팀장 ㄷ씨, 팀원 ㄹ씨)에 대한 첩보를 받아 수사에 착수했고, 4월 코로나 방역이 완화되면서 중국에 체류하던 ㄷ씨 등이 순차로 일시 귀국하자 공항 경찰과 공조하여 공항에서부터 추적하거나, 국정원 공조 하에 잠복수사를 통해 소재지를 찾아 급습하여 압수수색 영장을 집행하는 등의 방법으로 신속하게 증거를 확보하는 과정에서 반도체 웨이퍼 연마기술의 무단유출 및 사용 증거 등을 다량 확보하였고, 디지털포렌식 증거 분석을 통해 연구원들의 이직을 주도한 추가 공범 4명이 있는 사실 및, A社 및 C社의 영업비밀까지 유출된 정황을 발견하여 추가 입건하였으며, 즉시 전원 출국 금지 조치하여 이들이 중국업체로 복귀하는 것을 막았다.


기술경찰은 수사를 개시한지 9개여월만인 2022년 12월까지, 주범 3명(ㄱ, ㄴ, ㄷ씨)을 구속하여 기소 의견으로, A·B社의 전·현직 직원 3명(ㄹ, ㅁ, ㅂ씨)은 불구속 기소 의견으로 모두 송치하였고, 대전지방검찰청은 2023년 1월 이들을 산업기술보호법 및 부정 경쟁 방지법(영업비밀 국외누설 등) 위반 혐의 등으로 모두 기소했다. 


이번 사건은 기술 경찰이 최초로 구속영장을 신청하여 주범 3명을 구속한 뒤 검찰에 송치한 사건인 점에 의미가 있다. 또한, 피해기업 3社 중 규모가 가장 작은 B社의 경우만 하더라도 기술 유출로 인해 1천억 원 이상의 경제적 피해가 발생하였는데, ㄱ씨 등이 유출한 자료로 중국에서 본격적인 사업을 진행하기 전에 구속함으로써 추가적인 경제적 피해를 차단할 수 있었다. 한편, 특허청 기술 경찰은 국가 핵심기술의 해외유출을 막고 특허권·영업비밀·디자인권 침해·유출 범죄 수사를 위해 박사(공학·약학·법학·디자인), 변호사, 변리사, 포렌식전문가, 심사‧심판경력자 등 다양한 전문성을 가진 수사관을 배치, 기술 전문 수사를 위한 인적 토대를 갖추는 한편, 올해 상반기 기술범죄수사지원센터를 신설하여, 최첨단 수사 장비를 갖추어 기술범죄수사에 특화된 과학수사 기능을 강화하기 위한 물적 토대를 더욱 공고히 할 예정이다.

 

앞으로도 특허청 기술 경찰은 대전지방검찰청, 국정원 산업기밀보호센터 등 기술범죄 수사 유관기관과 더욱 긴밀히 협력하고, 향후 미국 국토안보수사국(HSI) 등과도 공조체계를 마련하여 국제 기술범죄에 대한 대응을 강화해 나갈 계획이다.


김시형 산업재산보호협력국장은 “기술패권 경쟁 시대에는 기술력이 곧 국력”이라고 강조하며, “특허청은 기술경찰의 역할을 더욱 강화하여, 우리의 국가 핵심기술을 지켜내는데 앞장서겠다”고 밝혔다. 나아가, “유수한 반도체 연구 인력이 해외로 이직하여 기술유출의 유혹을 받지 않도록, 특허청 심사관으로의 재취업 기회를 제공해 기술범죄를 원천적으로 차단하기 위해서도 노력하겠다”라고 밝혔다. 



<무단전재 및 재배포금지> 최대열기자

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